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  • 价    格: 电议
  • 型    号:P-1000 Pro ALD
  • 生 产 地:欧洲 访问:152次
  • 发布日期:2019/9/8(更新日期:2020/1/27)

PICOSUN 生产型原子层沉积机P-1000 Pro ALD

产品简介

德国 PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机,156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背),高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背),(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺.

详细内容

公司简介

 PICOSUN P-1000 Pro ALD 生产型原子层沉积机

     

技术参数:
 

衬底尺寸和类型

 。156 mm x 156 mm硅片800~1000片/批次(双面/背对背)
 。高达400 mm x 600 mm玻璃基板30~50片/批次(双面/背对背)
 。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬币,医疗植入部件,机械部件等)
 。多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品

工艺温度: 50 - 500 °C
 

基片传送选件:

 。气动升降(手动装载,带叉车forklift cart)
 。全自动转载,用注册送体验金官网机器人实现
 

前驱体: 

 。液态、固态、气态、臭氧源
 。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
 。8根独立源管线,最多加载12个前驱体源

重量: 2000 kg
尺寸:(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
选件: PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准: 标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 
 




其他可选装置

其它可选装置:

PICOFLOW™ 扩散增强器
PICOFLOW™扩散增强器用于提升深沟槽、高深宽比样品的薄膜质量。同样适用于多孔、通孔、柔性样品,粉末及其他复杂纳米结构的样品。该装置兼容所有Picosun™ ALD设备。

POCA™ and PICOVIBE™ 颗粒沉积系统
PIcosun提供注册送体验金官网及研究型粉末沉积解决方案。POCA™ 300粉末沉积腔可以加工大批量粉末材料,并可以直接集成到PICOSUN™ P-300生产线反应腔内。对于小批量的粉末材料,可以采用POCA™ 200粉末沉积腔集成到PICOSUN™ R系列的设备上。此部件体积小,可以为高质量的粉末材料研究提供多样化、成本低的解决方案。
Picosun PICOVIBE™装置可以使前驱源气体在粉末中的均匀分布,进一步提升粉末中每一个颗粒的薄膜均一性。

可连续沉积的Roll-to-roll 腔室
在印刷电子、OLED包装、薄膜电池、智能纺织材料、有机传感器、可循环或可生物降解包装材料、柔性显示器等研究领域,均要求连续的ALD镀膜 工艺。Picosun卷对卷ALD腔室可容纳300mm宽的衬底。并可直接集成到PICOSUN™P-300生产型反应腔室上。我们还提供用于研究的小型卷对卷腔室,可容
纳70mm宽的衬底。 


关键词:PICOSUN  P-1000  Pro  ALD  生产型原子层沉积机    镀膜沉积  原子层沉积机  

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