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  • 价    格: 电议
  • 型    号:P-300 Advanced ALD
  • 生 产 地:欧洲 访问:36次
  • 发布日期:2019/9/11(更新日期:2019/10/18)

高级型原子层沉积机P-300 Advanced ALD

产品简介

PICOSUN P-300 Advanced ALD 高级型原子层沉积机.156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背),高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背);Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm。全自动转载,用注册送体验金官网机器人实现,标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 .

详细内容

公司简介

 

PICOSUN P-300 Advanced ALD 高级型原子层沉积机
 
技术参数

衬底尺寸和类型: 

  。156 mm x 156 mm硅片50~100片/批次(双面/背对背)
  。高达300 mm x 300 mm玻璃基板10~20片/批次(双面/背对背)
  。大批量的3D产品(例如:钟表部件,珠宝,硬币,医疗植入部件,机械部件等)
  。粉末与颗粒
  。Roll-to-roll, 衬底最大宽 300 mm
  。多孔,通孔,与高深宽比(HAR)样品


工艺温度:
 50 - 500 °C
 

片传送选件: 

 。气动升降(手动装载)
 。半自动装载,用线性装载器实现
 。全自动转载,用注册送体验金官网机器人实现

前驱体 :

 。液态、固态、气态、臭氧源
 。前驱源余量传感器,并提供清洗和装源服务
 。4根独立源管线,最多加载6个前驱体源

重量: 400 + 300 kg
尺寸 :(W x H x D) 149 cm x 191 cm x 111 cm
选件: PICOFLOW™ 扩散增强器,N2发生器,尾气处理器,定制设计,与工厂软件连接服务。
验收标准 :标准设备验收标准为 Al2O3 工艺 




Picosun 300mm生产线上的产品是300mm以下晶圆的自动化、高产量的注册送体验金官网ALD加工设备。包括PICOSUN™ P系列Pro 和Advanced ALD设备。该工具可以独立工作,也可以集成到PICOPLATFORM™300真空集群系统以达到更高的产量和自动化水平。为了节约昂贵的设施空间,所有PICOSUN™的
ALD系统有着紧凑、高效的设计。集成的专业机柜,装载着前驱体和电子元件,保证了快速简便的维护和最短的停机时间。PICOSUN™ P系列工具保证了最大产能以及最节约成本的情况下得到优秀的ALD工艺质量,并履行严格的现代半导体产业的生产力和安全要求。

工艺咨询和开发,产能提升,维护保养流程和系统及工艺的故障排除,我们客户化定制的PICOSUPPORT™综合解决方案24小时快速响应,随时待命。在购买之前,我们的演示服务保证了设备可以100%满足客户最苛刻的产线需求。

关键词:PICOSUN  P-300  Advanced  ALD  高级型原子层沉积机  镀膜沉积  原子层镀膜沉积机  

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